前言

CMP抛光在半导体制造过程中占据着举足轻重的地位,其发展水平直接影响着半导体器件的性能与品质。随着全球半导体市场的持续扩大,CMP抛光技术的重要性也日益凸显、/p>

关键技?/p>

厉害!住友化学开发出新产品,这个东西不好做!
2023 08-30

8?8日,住友化学宣布成功开发出一种高纯氧化铝的量产技术、/p>

我国稀土抛光粉存在哪些技术瓶颈?
2024 06-11

“抛光粉之王”的技术现犵/p>

如何评价稀土抛光粉的抛光效果?
2024 06-12

稀土抛光粉抛光效果的表?/p>

产业动?/p>

?万片!鼎龙股份CMP抛光垫卖疯了
2024 06-06

鼎龙股份控股子公司鼎汇微电子CMP抛光垫产品销售持续保持增长态势,并?024?月首次实现抛光硬垫单月销量破2万片的单月历史新高、/p>

3亿元?5万片!彤程新材布局半导体芯片抛光垫
2024 05-28

?亿元投建半导体芯片抛光垫项目,彤程新材加码半导体材料布局、/p>

专家解答

为了解决CMP精抛光磨料氧化硅的合成技术难点和国产化供应问题,不少学者选择对氧化硅改性处理、/p>

解决方案

吉致电子JEEZ碳化硅抛光垫
2023 12-29

产品分类:吉致电子·抛光垫产品名称:无纺布抛光?碳化硅SIC抛光?suba800替代产品特点:吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求,针对碳化硅SIC抛光?道工艺制程搭配不同型号抛光垫(粗磨垫/精磨?粗抛?精抛垫)具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比(177----06-----

氧化铝抛光粉
2023 03-15

高纯氧化铝是指纯度为99.99%以上的氧化铝。高纯氧化铝粉呈白色粉末,化学性能稳定,高温收缩性能适中,具有良好的烧结性能以及普通氧化铝粉无法比拟的光、电、磁、热和机械性能,在高技术新材料领域和现代工业中有着广泛应用、/p>

0.2um超细氧化铈抛光粉
2024 12-23

0.2um超细氧化铈抛光粉基本信息:CAS1306-38-3性质?,纳米氧化铈晶型完好,比重大,在陶瓷中不易形成气孔。产品具有良好的分散性透明性,易于添加在塑胶、硅橡胶等聚合物中;2,纳米氧化铈具有比表面积大的特点,适合于涂层材料或催化剂中使用;应用领域:1,光学抛?,玻璃抛?,宝石抛?,硅

抛光用氧化铝
2024 12-23

纳米级硅溶胶添加铝合金精抛抛光液
2024 04-02

铝合金精抛液1.主要成分:硅溶胶、表面活性剂、分散剂、螯合剂2.产品功能:专门针对铝合金精抛的一款高效精抛液,本产品长时间不结晶,并具有容易清洗特性,缓解了整个行业所面临的硅溶胶结晶严重和清洗困难的问题。应用领域:适用于铝合金材质?C产品的表面处理、/p>

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