编号：CYYJ043223
篇名：氧化锌共掺杂薄膜的光电性能研究
作者：李粮任 朱刘
关键词：磁控溅射 靶基距 薄膜 铝掺杂氧化锌 铝镓掺杂氧化锌 光电性能
机构：广东先导稀材股份有限公司 国家稀散金属工程技术研究中心
摘要：为研究不同掺杂氧化锌靶材制备薄膜的光电性能,采用了AZO和AGZO靶材制备薄膜样品,研究不同靶基距下制备AZO薄膜的均匀性,同时研究了不同溅射工艺参数下的AZO、AGZO薄膜的光电性能,此外,通过对比分析AZO、AGZO薄膜之间的性能差异,探究靶材组分改进对薄膜性能的影响和机理。实验结果表明,靶基距为9 cm沉积薄膜的厚度均匀性较好;在纯氩条件制备的AZO和AGZO薄膜的方阻最低,此外,AZO和AGZO薄膜在300nm~1300 nm的较宽区域均展现了良好的光学透射性能,在200℃/0%O2的参数条件下,AZO和AGZO薄膜的电阻率在10-3Ω·cm量级,载流子浓度在1020cm-3量级,其中III族元素的掺杂量增大的AGZO(2.6wt%Al2O3+Ga2O3)在最佳工艺参数条件制备的薄膜的光电性能更为优越。
