编号：CPJS01335
篇名：a-Si∶H/SiO_2多量子阱材料制备及其光学性能和微结构研究
作者：马小凤； 王懿喆； 周呈悦；
关键词：多量子阱； 量子限制效应； 光学吸收； 能带结构；
机构：上海太阳能电池研究与发展中心；
摘要：利用等离子体增强化学气相沉积技术制备了a-Si:H/SiO2多量子阱结构材料.对a-Si:H/SiO2多量子阱样品分别进行了3种不同的热处理,其中样品经1100℃高温退火可获得尺寸可控的nc-Si:H/SiO2量子点超晶格结构,其尺寸与非晶硅子层厚度相当.比较了a-Si:H/SiO2多量子阱材料与相同制备工艺条件下a-Si:H材料的吸收系数,在紫外/可见短波段前者的吸收系数明显增大,光学吸收边蓝移,说明该材料具有明显的量子尺寸效应,验证了采用a-Si:H/SiO2多量子阱结构来提高太阳能电池光电转换效率的可行性.另外,尺寸可控的nc-Si:H/SiO2量子点超晶格结构的形成,为纳米硅新结构太阳能电池的研究和制备奠定了基础.
