编号：NMJS02447
篇名：二氧化硅溶胶的制备及其对硬盘基板NiP的抛光速率研究
作者：孙涛；
关键词：硅溶胶； 磨料； 硬盘； 化学机械抛光； 去除速率；
机构：天津工业大学环境与化学工程学院；
摘要：离子交换法制备了不同粒径的纳米二氧化硅溶胶,采用TEM、DLS等手段对磨料进行了表征,并以二氧化硅溶胶作为磨料对存储器硬盘基板NiP进行化学机械抛光实验,考察了磨料粒径和数量等因素对存储器硬盘基板NiP的抛光去除速率的影响。
