双轴式不定偏心法对提高磁粒研磨轨迹均匀性的研究

编号：FTJS106973

篇名：双轴式不定偏心法对提高磁粒研磨轨迹均匀性的研究

作者：马小刚 王梓鉴 李厚乐 王泽志

关键词：磁粒研磨 平面研磨 轨迹均匀性 ADAMS 表面粗糙度 平面度

机构：辽宁科技大学机械工程与自动化学院 辽宁省复杂工件表面特种加工重点实验室

摘要：为解决TC4钛合金表面研磨不均匀、研磨轨迹重叠与加工效率低的问题,提出1种双轴式不定偏心磁粒研磨法。利用Adams软件模拟单颗磨粒的运动轨迹,采用统计方法计算运动轨迹密度的标准差值,作为平面运动轨迹均匀性的定量评价值。采用单轴式磁粒研磨法、双轴式定心磁粒研磨法和双轴式不定心磁粒研磨法在主轴转速350 r/min,研磨间隙1.5 mm的实验条件下对TC4钛合金平面研磨60 min,通过表面粗糙度、平面度大小和表面形貌来表征工件的表面均匀性。结果表明相同实验条件下采用双轴式不定偏心磁粒研磨法进行表面光整加工,粗糙度Ra由3.60μm下降到0.21μm,最大高度差由41.0μm变为6.3μm,平面度由0.0297 mm变为0.0072 mm,相比较于其它2种加工方式,双轴式不定偏心磁粒研磨既可以提高研磨效率,又可以使磨粒的运动轨迹密集程度大幅度减小,研磨轨迹更加均匀,有效去除了工件表面缺陷,显著提升表面均匀性。