编号：CYYJ043432
篇名：铝掺杂对硒化铟晶体结构与性能的影响
作者：郑权 刘学超 王浩 朱新峰 潘秀红 陈锟 邓伟杰 汤美波 徐浩 吴鸿辉 金敏
关键词：InSe∶Al 布里奇曼法 力学性能 电学性能 第一性原理 晶体结构
机构：上海大学微电子学院 中国科学院上海硅酸盐研究所 中国科学院大学 上海电机学院材料学院
摘要：硒化铟(InSe)是一种新型的窄禁带(1.3 eV)层状半导体,具有优异的塑性和电学性能,在新型电子和光电子器件中具有广泛应用前景。采用布里奇曼(Bridgman)法生长了未掺杂和铝掺杂的InSe晶体,通过能谱仪(EDS)和扫描电子显微镜(SEM)对制备材料的化学成分和表面形貌进行了表征。本文研究发现,铝掺杂可调节InSe晶体的塑性和光电性能。X射线衍射(XRD)分析表明晶体具有六方结构,结合拉曼光谱表征证实晶体结构为ε-InSe。纳米压痕测量表明,随着铝掺杂量的增加,InSe晶体的硬度和模量降低,材料的塑性提高。霍尔效应测量和光学吸收谱结果表明,铝掺杂可提升载流子浓度和禁带宽度。
