铝薄膜的制备及其性能研究

编号：FTJS106885

篇名：铝薄膜的制备及其性能研究

作者：杨正华 符姣姣 姚世鹏

关键词：磁控溅射 铝薄膜 溅射功率 红外发射率 电学性能

机构：中国重型机械研究院股份公司

摘要：采用直流磁控溅射法沉积铝薄膜,利用扫描电子显微镜(SEM)、四探针电阻测试仪和红外发射率测试仪对其形貌和性能进行表征,研究溅射功率(70、90、110、130 W)对铝薄膜的沉积速率、表面形貌、电学性能和红外发射率的影响规律。结果表明,随溅射功率的增大,铝薄膜的沉积速率逐渐增大,表面晶粒尺寸逐渐增大;铝薄膜的电阻率先降低后升高,其红外发射率呈现相同趋势。当溅射功率为110 W时,铝薄膜的红外发射率最低(<0.12)。