编号：FTJS01009
篇名：二氧化钛光催化氧化-离子色谱法测定液晶材料中的氟含量
作者：张红漫; 陈敬文;
关键词：二氧化钛; 光催化氧化; 预处理; 液晶; 离子色谱; 氟;
机构：南京工业大学理学院;
摘要：建立了TiO2光催化氧化-离子色谱法测定液晶材料中氟含量的方法。利用TiO2光催化氧化技术作为预处理手段对含氟液晶化合物进行有机破坏,使碳氟键断裂,生成的F-用离子色谱法测定。结果表明,TiO2催化剂用量为0.1g/L时,可达到最佳的光催化降解效果,最佳降解时间为50min。F-峰面积与其含量在0.005～1mg/g范围内呈良好的线性关系,检出限为2.1μg/g。测得3种液晶材料的氟含量分别为7.6,18.1及28.4mg/g,不同浓度的加标回收率为86.0%～118.0%,相对标准偏差RSD(n=5)在3.2%～5.7%之间。本方法不仅适用于有机氟体系,同时也为需经有机破坏后进行测定的有机化合物体系提供了新方法。
