编号：CYYJ01725
篇名：无氢硅烷常压化学气相沉积SiOx薄膜在晶体硅太阳能电池制造中的应用
作者：赵毅
关键词：无氢硅烷 SIOX薄膜 晶体硅太阳能电池
机构：山西兴新安全生产技术服务有限公司
摘要：提出SiOx薄膜沉积在成本效益高的实验室规模三维打印常压化学气相沉积装置,研究了镀层的完整性、与各种表面的一致性以及处理后的回弹性,并讨论了常压化学气相沉积(APCVD)法制备的薄膜。研究表明,在不同的应用中,常压化学气相沉积法制备的薄膜在钝化发射体的正面和背面太阳能电池上起到保护寄生电镀的作用。
