编号：FTJS04790
篇名：基于离子束抛光的KDP晶体表面嵌入铁粉清洗研究
作者：袁征； 戴一帆； 解旭辉； 周林； 关朝亮； 冯殊瑞；
关键词：KDP晶体； 磁流变抛光； 离子束抛光； 铁粉去除；
机构：国防科技大学机电工程与自动化学院；
摘要：磁流变抛光技术是实现KDP晶体超精密加工的新方法,但磁流变液中的铁粉容易嵌入质软的KDP晶体表面。本文提出了利用基于低能离子溅射原理的离子束抛光技术去除KDP表面嵌入的铁粉。利用红外拉曼光谱和白光干涉仪分别分析了低能离子束抛光前后KDP晶体表面物质结构变化和表面粗糙度的变化;结果显示,低能离子束溅射不改变KDP晶体表面的组成结构,并改善了KDP晶体表面质量,因此离子束抛光可用于KDP晶体的加工;利用飞行时间二次离子质谱分析技术分别对单点金刚石车削、磁流变抛光和低能离子束抛光后的KDP晶体表面进行元素分析,结果显示低能离子束抛光可有效去除磁流变抛光在KDP晶体表面嵌入的铁粉。
