编号：CPJS02198
篇名：HQDEA-DMMDA型聚醚酰亚胺/二氧化硅混合基质膜的制备及其气体分离性能研究
作者：张立秋； 任吉中； 李晖； 赵丹； 邓麦村；
关键词：HQDEA-DMMDA型聚醚酰亚胺； 疏水型气相二氧化硅TS-530； 混合基质膜； 气体分离；
机构：中国科学院大连化学物理研究所；
摘要：以HQDEA-DMMDA新型聚醚酰亚胺(PEI)为基质膜材料,疏水型气相二氧化硅TS-530为填料,将TS-530分散到聚醚酰亚胺溶液中并采用流涎成膜方法,制备出不同质量比PEI/TS-530混合基质膜.与PEI膜相比,TS-530粒子的加入改变了聚合物链段的堆砌,增加了有效自由体积,使H2、CH4、N2、O2以及CO2的渗透系数都得到了增加,同时CO2对CH4、N2以及O2对N2的选择性均未发生较大程度的改变.随TS-530浓度增加,分子动力学直径越大的气体其渗透系数、扩散系数提升幅度越大,这与Maxwell模型发生了较大的偏离,而溶解系数的变化则取决于极性醚氧基团含量以及界面吸附作用.
