编号：FTJS03991
篇名：分散剂对亚微米氮化硅粉体分散性能的影响
作者：梁博； 韩凤兰；
关键词：分散剂； 亚微米； 氮化硅； 沉降行为；
机构：北方民族大学材料科学与工程学院；
摘要：本文利用研磨机将氮化硅(Si3N4)粉体研磨至亚微米级,并分析分散剂对Si3N4颗粒粒度的影响。从四甲基氢氧化铵(TMAH)、六偏磷酸钠(SHMP)和Darvan-c这三种分散剂对亚微米Si3N4分散性能的曲线图中可以看出,TMAH、SHMP和Darvan-c都有很强的抑制沉淀的作用,对亚微米Si3N4的分散效果较好。SHMP的加入量在1%时出现最佳值,随着加入量的逐渐增加,亚微米Si3N4的分散效果也逐渐变差。比较这三种分散剂,0.4%的Darvan-c对亚微米Si3N4的分散效果优于1%的SHMP和0.8%的TMAH对Si3N4的分散效果。
