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无掩膜光刻机

无掩膜光刻机
  • 品牌9span>安徽泽攸
  • 产地9span>安徽
  • 关注度:49
  • 型号9span>无掩膜光刻机
  • 报价9span class="jg_red">面议
  • 信息完整度:
核心参数
    产品介绍

      泽攸科技无掩膜光刻机是一种先进的光刻技术设备,它不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形,而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光,形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域有广泛的应用、/span>

      技术特炸/span>

      纳米压电位移台拼接技?/span>

      红光引导曝光,所见即所徖/span>

      OPC修正算法优化图形质量

      CCD相机逐场自动聚焦

      灰度匀光技?/span>

      光路远离结构国/span>

      光路远离结构? width=

      主要指标

      技术参?png

      应用案例

      应用案例

      应用案例

      应用案例


    问商宵/div>

    • 无掩膜光刻机的工作原理介绍?
    • 无掩膜光刻机的使用方法?
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    • 无掩膜光刻机使用的注意事顸/li>
    • 无掩膜光刻机的说明书有吗>/li>
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    工商信息

    企业名称

    安徽泽攸科技有限公司

    企业类型

    信用代码

    91340700MA2N3U8Q3E

    法人代表

    注册地址

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    泽攸科技成立?016年,拥有安徽铜陵、北京、上海和东莞四家分公司,是一家具有完全自主知识产权的精密仪器高科技公司。公司专注于扫描电镜、原位测量系统、台阶仪、探针台、电子束光刻机等精密设备的研究,填补了国家在科学精密仪器领域的诸多空白。人才是企业的核心竞争力和发展的驱动力。泽攸科技?0世纪90年代便开启电子显微镜及相关原位附件的研发,已逐步打造成为科学精密仪器领域人才聚集地。现有员?00多人,其中院士、专家团?0余人,拥有精通机械、光学、超高真空、电子技术、微

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