产地：美国，韩国：�/span>

型号９�/span>PS-100� EURA-100;

等离子去胶机主要用于光刻胶的剥离或灰化，也可用于９�/span>

1.有机及无机残留物的去陣�/span>

2.去除残胶以及等离子刻蚀的应�?/span>

3.清洗微电子元件、电路板上的钻孔或铜线框枵�/span>

4.提高黏附性，消除键合问题

5.塑料的表面改性：O2处理以改进涂覆性能

6.产生亲水或疏水表面等

主要配置９�/span>

1.载片(Wafers)：直径不大于100 mm(戕�/span>200mm)的各种基牆�/span>

2.工艺气体(Gas lines)９�/span>O2� N2

3.射频溏�/span>(Source)９�/span>50｝�/span>500W(13.56 MHz)连续可调，全自动匹配

4.气体流量(Gas flow)９�/span>MFC精确调控

5.产能：每欠�/span>20片，每个循环�?/span>5分钟（辉先�/span>1分钟（�/span>

6.可升级到反应离子蚀刺�/span>(RIE)功能

参考用戶�/span>９�/span>

广东工业大学等；