光刻朹�/strong>又名：掩模对准曝光机，曝先�/span>系统，光刻系统，光刻朹�/strong>，紫外曝光机等；ECOPIA为全�?*的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻朹�/strong>和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上*早将光刻朹�/strong>商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众�?*企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐、�/span>

产地：韩国ECOPIA公司�?*能做到图形化蓝宝石衬底（PSS（�strong>光刻朹�/strong>，高性价毓�/span>

型号：M-150

技术规格：

- 掩模尺寸�?*7英寸：�/span>

- 样品尺寸�?*6英寸：�/span>

- 卡盘移动：X，Y，Z，Theta轴手动，楔形补偿调平：�/span>

- 紫外光源�?.25" X 6.25"：�/span>

- 光源功率�?50瓦紫外灯：�/span>

- 光源均匀性：<+/-3%：�/span>

- 光源365nm波长强度�?*30毫瓦：�/span>

- 显微镜：双显微镜系统：�/span>

- 显微镜移动：X，Y，Z轴手动调节；

- 显微镜物镜空间：50-150mm：�/span>

- 标配放大倍率�?0X-400X：�/span>

- 显示器：20" LCD：�/span>

- 曝光时间�?.1-999秒；

- 接触模式：真空接触，硬接触，软接触，接近接触(距离可调)：�/span>

- 对准精度�?um (Vacuum Contact)� 1.5um(Hard Contact)� 3um(Soft Contact)� 5um(Proximity Mode)：�/span>

- 电源�?20V，单相，15安培：�/span>

主要特点:

- 光源强度可控：�/span>

- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)：�/span>

- 系统控制：手动、半自动和全自动控制：�/span>

- 曝光模式：真空接触模�?接触力可�?，Proximity接近模式� 投影模式：�/span>

- 真空吸盘范围可调：�/span>

- **技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式

- 双CCD显微镜系统，**放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作、�/span>

- 特殊的基底卡盘可定做：�/span>

- 具有楔形补偿功能：�/span>