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低压化学气相沉积系统(LPCVD)
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扩散炉、低压化学气相沉积设?LPCVD)

产地：韩国；

有单管和双管两个不同的型号，用于科研或者小规模生产、/span>

性能和特点：

- 温度范围?00 ~ 1000摄氏度；

- 气体混合能力(带有质量流量?：/span>

- 真空范围：~ 10-6Torr：/span>

典型应用９/span>

- 无应力氮化硅：/span>

- LPCVD：/span>

- 退火；

- 氧化：/span>

- 其他...

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上海载德半导体技术有限公号/a>官方展台田a href="//www.znpla.com/">中国粉体罐/a>设计制作，工商信息已核实、br /> 公司地址：上海市松花江路251弄白玉兰环保广场7叶br /> https://zdbdt.cnpowder.com.cn/