喷射化学气相沉积(Spray CVD)

产地：法国AS：�/span>

- 主要用于太阳能电池氧化物、半导体、电光涂层、绝缘层、超导体、固体燃料电池等的材料制备及薄膜沉积、�/span>

- 2inch小型喷射化学气相沉积设备，主要用于实验室。沉积及退火在同一个腔体内完成、�/span>

性能和特点：

- 温度范围：室� ~ 1200摄氏�?

- *快升温速度�?50摄氏�?科�

- 前驱体混合能�?带有Atokit喷雾�?;

- **真空度：10^-6Torr;

- 样品尺寸：不大于2英寸;