上海载德半导体技术有限公号/div>
首页 > 产品中心 > 其他 > 电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator)
产品详情
电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator)
公司品牌
品牌传达企业理念
产品简今/div>

仪器简介:电子束蒸发系统是化合物半导体器件制作中的一种重要工艺技术;它是在高真空状态下由电子束加热坩埚中的金属,使其熔融后蒸发到所需基片上形成金属膜。可蒸发很多难熔金属或者蒸汽压低的金属材料,包括Ta W Mo Rh C B Pt Al2O3 ZnO Pr2O3?/p>

技术参数:

1. 蒸发室尺寸:24"24"21":/p>

2. 极限真空度:?10-7托;

3. 电子枪功率: 6千瓦可调:/p>

4. 蒸发速率:可由晶体振荡器监控厚度和沉积速率:/p>

5. 可蒸发金属膜Al,Ti,Pt,Au,Ag,Cu,NiCr等;

6. 膜厚度误 ?#177;5%,膜厚均匀性误 ?#177;5% 、/p>

主要特点9/strong>

1. 安全简易的软件操作系统,四个不同级别的用户权限(操作、工艺、工程师以及维修保养)较大限度的保证系统的安全、/p>

2. 双腔设计:蒸发材料和晶片分别处于不同的腔体中,使得源材料的更换和晶片的装载过程中**限度的保证腔体的洁净程度和缩短抽真空的时间、/p>

3. 较大的前腔门使得在维修和保养的过程中极为方便、/p>

4. 采用卫星旋转式晶片装载夹具,可以根据不同的产量的需要升级晶片直径或增加夹具的数量。卫星旋转式夹具保证了沉积薄膜的均匀性、/p>

参考用户:深圳大学;兰州理工大学;广东工业大学;厦门大学;华中科技大学;重庆石墨烯研究院;

  • 推荐产品
  • 供应产品
  • 产品分类