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磁控溅射镀膜机(Sputter)
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产品简今/div>

仪器特点9/p>

  • 腔体材料:不锈钢,铝,或者Bell Jar:/p>

  • 分子泵:70?50?00 l/sec 一级泵:机械泵或干泵;

  • 13.5MHz 300-600W射频电源?KW直流电源:/p>

  • QCM在线厚度测量,厚度分辨率<0.1nm:/p>

  • 带有观察窗的门,方便样品取放:/p>

  • Labview软件,PC控制:/p>

  • 多重密码保护:/p>

  • 全安全互锁设计;

选配功能9/p>

  • 向上,向下,侧向溅射:/p>

  • 射频,直流、脉冲直流溅射;

  • 共溅射,反应溅射:/p>

  • 组合溅射:/p>

  • 射频、直流偏?1000V):/p>

  • 基底加热:不高于700摄氏度;

  • 厚度监控:/p>

  • 基底射频等离子清洗;

  • Load-Lock,以及自动样品取放;

不同型号选择9/p>

  • NSC系列,立式磁控溅射系统;

  • NSC系列,立式紧凑磁控溅射系统;

  • NSC系列,台式磁控溅射系统;

  • 双腔体系统,NSR系列,磁控溅?反应离子刻蚀(RIE):/p>

  • 双腔体系统,NSP系列,磁控溅?PECVD:/p>

  • 双腔体系统,NST系列,磁控溅?热蒸发;

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