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光学仪器及设夆/a>
制样/消解设备
台式三维原子层沉积系统ALD
原子层沉?/strong>(Atomic layer deposition ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是一种真正的“纳米”技术,以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性,因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积、/p> |
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美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统,在小巧的机身(78 x56 x28 cm)中集成了原子层沉积所需的所有功能,?多容??英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁,结合前驱体瓶加热,管路加热,横向喷头等设计 使温度均匀性高?9.9%,气流对温度影响减少?.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现 8英寸基体上膜厚的不均匀性小?%,而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现对高?500?长径比微纳深孔内部的均匀沉积、/p> |
GEMStarXT产品特点9/strong> *300 铝合金热壁,对流式温度控刵/p> *175℃温?50ml前驱体瓶?00℃温控输运支箠/p> *可容纳多???英寸样品同时沉积 *可容?.25英寸/32mm厚度的基佒/p> *标准CF-40接口 *可安装原位测量或粉末沉积模块等选件 *等离子体辅助ALD插件 *多种配件可供选择 |
GEMStarXT产品型号9/strong> GEMStar-4 XT9/strong> ***4英寸/100 mm基片沉积 *单路前驱体输运支管, 4路前驱体瓶接叢/p> *不可升级为等离子体增强ALD GEMStar-6/8 XT9/strong> ***6英寸(150mm)/8英寸(200mm)基片沉积 *双路前驱体输运支管, 8路前驱体瓶和CF-40接口 *可升级为等离子体增强ALD |
GEMStar-8 XT-P9/strong> ***8英寸/200mm基片沉积 *双路前驱体输运支管, 8路前驱体瓶和CF-40接口 *装备高性能ICP等离子发生器 13.56 MHz 的等离子源非常紧凑,只需风冷?*运行功率?00W、/p> *标配3组气流质量控制计(MFC)控制的等离子气源线,和一条MFC控制的运载气体线,使难以沉积的氧化物、氮化物、金属也可以实现均匀沉积、/p> |
丰富配件9/strong> |
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多样品托盘: *多样品夹具,样品尺寸?" 6" 4")向下兼容、/p> *多基片夹具,*多同时容?片基片、/p> |
温控?/em>托盘9/em> *可加热样品托盘,**温度500℃,可实现热?热壁复合加热方式、/p> |
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尾气处理系统9/em> |
臭氧发生器: |
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粉末旋转沉积罐模块: 配合热壁加热方式,进一步实现对微纳粉末样品全保型薄膜均匀沉积包覆、/p> |
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手套箱接口: 可从侧面或背?*接入手套箱,与从底部接入手套箱不同,不占用手套箱空间。由于主机在手套箱侧面,反应过程中不对手套箱有加热效应,不影响手套箱内温度、/p> |
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