KMPR为负性光刻胶，用作DRIE蚀刻掩膜实现高深宽比的图案，它还被广泛用作MEMS与生物器件的电镀模具。因为KMPR减少了Cross-link密度，在Hard baked之前，KMPR比SU-8更容易剥离。KMPR负性光刻胶可在任何(PGMEA)，或(TMAH)的显影剂中得到显影�

KMPR 1000系列的特�?/span>

1）临时或**的应用程庎�/span>

2）膜厚：2-75 um

3）兼容标准水性显影剂

4）高宽比成像和垂直侧壁，深宽比：>5:1

5）单一旋途可�?00微米

6）减少开裁�/span>

7）优异的金属粘附�?/span>

8）优异的电镀膜液稳定�

相关溶液９�/span>

显影液：SU-8 Developer

去胶液：Remover PG

增附剂：OmniCoat

一般储存温度：

-10��C