需要在负胶的SU-8实现正胶轮廓？？

新产品光刻胶轮廓修改剂带来了新的契机、�/span>

轮廓修改剂直接旋涂在Pre-baked的SU-8光刻胶顶部，降低了光刻胶膜顶部的光灵敏度，取得了正型的侧壁、�/span>

影响SU-8轮廓效果的原囟�/span>

1）光刻胶类型及厚�?/span>

2）XP TQC胶的厚度

3）曝光量

4（�span>显影后的去膜野�/span>

5）曝光类型（靠近或软接触（�/span>

正锥形轮廓：

1）在Micro-Molding应用中，实现模具去除步骤

2）需要在结构的顶部和侧壁上的后续金属沉积步骤