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半导体行业专用仪?/a>
光学仪器及设夆/a>
制样/消解设备
电子测量仪器
测量/计量仪器
其他
无损检?无损探伤仪器
合成/反应设备
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经?5年以上的ALD研发生产经验?003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix?017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备、/span>
方式: Thermal ALD (plasma option)
优势: 性能强,成本小,易于操作和维抣/span>
薄膜: 氧化物Al2O3 HfO2 La2O3 Li2O Li7La3Zr2O12 LiFePO4 SIO2 TiO2 ZnO ZrO2 Ta2O5 In2O3 SnO2 Fe2O3 MnOx Nb2O5 MgO Er2O3 WOx MoO3 V2O3 硫化物ZnS SnS Cu2S In2S3 Cu2ZnSnS4,PbS CoS筈/span>
反应腔体大小: S100: 可达100 mm / S200: 可达200 mm / S300: 可达300 mm
设备尺寸: S100: 585 x 560 x 980 mm / S200: 585 x 560 x 980 mm / S300: 686 x 560 x 980 mm
操作模式: 连续模式(高? / 曝光模式(超高深宽?
功率: 115 VAC / 220 VAC?900 W (不包含泵) (S300 2000W)
*强温? S100: RT - 400 C / S200: RT - 350 C / S300: RT - 350 C
沉积均一? Al2O391% (1)
循环时间: <2s per cycle with Al2O3 at 200C
兼容: 标准二端口,可增加至六端口。每一个源瓶均可放固?液?气态前驱体,可独立加热?00C
阀? 高速ALD阀门,10ms响应
前驱体源瓵 独立可加?0ml不锈钢气瓶,可选择更大容量
载气/排气: N2?00SCCM
原位分析选项: 原位QCM 原位椭便仪, 残余气体分析 LVPD 批量生产 集成手套箱等 臭氧发生器, 批量生产 自组装单层膜(SAMs)颗粒镀膜, 等离子体加强
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