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元素分析?/a>
试验朹/a>
Innovate T5型全谱直读光谱仪采用国际标准的设计和制造工艺技术,应用了日本滨松公?**的CMOS信号采集元件,每块CMOS都可以单独设值火花个数,与国际光谱仪**技术同步,采用真空光室设计及全数字激发光源。这款CMOS光谱仪,既包含了CCD光谱仪的全谱特性,又具备PMT光谱仪对非金属元素的*低检出限,整机设计合理,操作简单易学,具有数据*准,长期稳定性好等优点、/span>
应用领域
冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析
可检测基佒/span>
铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基、/span>
主要技术参?/span>
v光学系统:帕?龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统
v波长范围?40~680nm
v光栅焦距?01mm
v 器:高性能CMOS阵列/CCD阵列
v光源类型:数字光源,高能预燃技术(HEPS(/span>
v放电频率?00-1000Hz
v放电电流??00A
v工作电源:AC220V 50/60Hz 1000W
v仪器尺寸?80*565*360mm
v仪器重量?8kg
v检测时间:依据样品类型而定,一?0S左右
v电极类型:钨材喷射电?/span>
v分析间隙?mm
v其他功能:真空,温度,软件自动控制;压力,通讯监测
主要特点
v高性能光学系统
采用高精度的CMOS元件可精确测定非金属元素如C、P、S、As、B、N以及各种金属元素含量;测定结?准,重复性及长期稳定?*、/span>
v自动光路校准
自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作;
仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定、/span>
v插拔式透镜设计
真空光学系统采用独特的入射窗与真空隔离,可在真空系统工作状态下进行操作,光学透镜采用插拔式透镜结构,日常清洗维护方便快捷、/span>
v真空防返油技?/span>
多级隔离的真空防返油技术,采用真空压差阀门保证真空泵不工作时真空光室与真空完全隔离;中间增加了真空滤油装置,确保真空泵中油不进入真空室,保障CMOS检测器及光学元件在可靠环境中工作、/span>
v开放式激发台
开放式激发台机灵活的样品夹设计,以满足客户现场的各种形状大小的样品分析;配合使用小样品夹具,线材*低分析可达到3mm、/span>
v喷射电极技?/span>
采用国际***的喷射电极技术,使用钨材料电极,在激发状态下,电极周围会形成氩气喷射气流,这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触,提高激发精度;配上独特氩气气路设计,大大降低了氩气使用量,也降低客户使用成本、/span>
v集成气路模块
气路系统采用气路模块免维护设计,替代电磁阀和流量计,电极自吹扫功能,为激发创造了良好的环境、/span>
v数字化激发光溏/span>
数字激发光源,采用国际****的等离子激发光源,超稳定能量释放在氩气环境中激发样品;可任意调节光源的各项参数,满足各种不同材料的激发要求、/span>
v高速数据采雅/span>
仪器采用高性能CMOS检测元件,具有每块CMOS单独超高速数据采集分析功能,并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状态、/span>
v以太数据传输
计算机和光谱仪之间使用以太网卡和TCP/IP协议,避免电磁干扰,光纤老化的弊端,同时计算机和打印机完全外置,方便升级和更换;可以远程监控仪器状态,多通路操控系统控制和监控所有的仪器参数、/span>
v预制工作曲线
备有不同材质和牌号的标样库,仪器出厂时工厂预制工作曲线,方便安装调试和及时投入生产;根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异,激发和测试参数仪器出厂时已经调节好,根据分析程序可自动选择*优测试条件、/span>
v分析速度?/span>
分析速度快,仅需20秒即可完成一次分析;针对不同的分析材料,通过设置预燃时间及测量时间,使仪器用*短时间达?优的分析效果、/span>
v多基体分枏/span>
光路设计采用罗兰圆结构,检测器上下交替排列,保证接收全部的谱线,不增加硬件设施,即可实现多基体分析;便于根据生产的需要增加基体及材料种类和分析元素(无硬件成本)、/span>
v软件中英文系绞/span>
仪器软件操作简单,完全兼容于Windows7/8/10系统、/span>
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