仪器简介：

应用于IC、半导体制造及科研开发等领域

覆盖生产线上所有非金属薄膜

多参数和多层膜测野�/p>

技术参数：

Nanothi 100技术规�

可测薄膜

可测膜层 Oxide、Nitride、BPSG、PR、PI、Polymer、Polysilicon、ITO�

膜层结构 Oxide/Si、PR/Si、Nitride/Si、Polysilicon/Oxide/Si 等单、多层结�

测量参数 T，N，K，R

测量范围 25nm - 20?m (Oxide/Si)

硬件规格

光谱范围 400-800nm

物镜倍率 4X 10X 40X

光斑尺寸 *�?0?m

机械分辨� X�??m� Y�??m� Z�?.04?m

测量指标

250?�?000? 2000?�?0?m

准确� ��1� ��1�

重复性（3��� 0.75? 0.05�

稳定性（3��� 2.4? 0.25�

测量时间 单点 < 3sec� 5� <30sec

主要特点９�/strong>

先进的光学测量技�

高精度、高重复性测�

稳定、使用寿命长且低成本的光�

高性能PDA

自动调焦

三维全自动机械平�

贴近生产实际操作习惯的软件系统，为测量提供快捷、方便易用的操作

数据的准确测量与实时评价