天津市万德思诺国际贸易有限公司
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半导体行业专用仪?/a>
激活退火设 Ailesic-1500
溅射设备 SRH-420
溅射设备 SME-200J
光阻去除设备 NA-8000
激活退火设 Ailesic-2000
碳膜溅射设备 CS-200
高还原性低温热压键合设 FATB
高还原性低温热压对准键合设 MAFP
MIST-CVD氧化物薄膜沉积设 M150A
全自动晶片减薄机SGM-9100
其他
碳膜去除设备 NE-550EX
C2W低温热压键合设备 SAFP
粉体焙烧炈/a>
高温氧化 HT-RTP-4000
高温退火炉 PFS-4000
恒温/加热/干燥设备
蒸发设备 Ei-5
切割朹/a>
桌上型精密切割机MPC-200e
磨抛朹/a>
中型高速研磨设 STC-610
比表面积测定?/a>
飞行时间二次离子质谱 TOF-SIMS
定制加工仵/a>
氧化镓单晶外延片
X射线仪器
多功能扫描X射线光电子能谱仪 XPS
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万德思诺
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粉体人才
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溶液成长法单晶生长设备(TSSG法)
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品牌:万德思诺
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中型高速研磨设 STC-610
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品牌:万德思诺
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快速高温退火设备RTA RSA-06
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全自动晶片减薄机SGM-9100
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品牌:万德思诺
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桌上型精密切割机MPC-200e
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品牌:万德思诺
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MIST-CVD氧化物薄膜沉积设 M150A
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品牌:万德思诺
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C2W低温热压键合设备 SAFP
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高还原性低温热压对准键合设 MAFP
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高还原性低温热压键合设 FATB
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碳膜溅射设备 CS-200
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碳膜去除设备 NE-550EX
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激活退火设 Ailesic-2000
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光阻去除设备 NA-8000
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溅射设备 SME-200J
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溅射设备 SRH-420
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蒸发设备 Ei-5
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