高纯石英砂一般是挆/span>SiO2含量高于 99.9% 的石英微粉，主要应用在IC的集成电路和石英玻璃等行业，其高档产品更被广泛应用在大规模及超大规模集成电路、光纤、激光、航天、军事中。高纯石英砂是中性无机填料，不含结晶水，不参与被填充物的化学反应，是一种非常稳定的矿物填料，广泛应用于塑料、橡胶、陶瓷和涂料中，既可增加产品的各种新功能，也可节约大量原料、/span>
石英砂提?/span>
石英砂提纯是除去石英砂中少量或微量杂?/span>,获得精制石英砂或高纯石英?如电子级产品)的高难度分离技术。近年来，国内生产生产高纯石英砂主要工艺流程为：原矿硅石经洗矿机洗去泥沙＋/span>破碎朹/span>粗破后，将合格石英料投入焙烧炈/span>中，?/span>850℃~980℃温度下焙烧6个小时，焙烧后将石英料拖入清水中进行水淬，再经人工拣选出去除杂质后送入破碎机进行破碎并过筛，再将通过筛网的石英砂送入磁选机，磁选后石英砂投入到配有HCl和HF混合酸的酸缸中浸泡一周，再经浮选、脱水、烘焙、冷却、包装，制得高纯石英砂、/span>
石英砂提纯主要流程及技术要求：
1、粗选：将各类石英原矿中的明显的杂质和异物去陣
2、破碎：采用专业破碎机将石英原矿破碎至粒径为1~20mm的颗粑
3、水淬：将被烧后的石英颗粒置于冷水中快速冷却，以达到去除矿物内部的气泡、水纹以及一些包裹的杂质的目的，使矿物裂开。石英煅烧水淬处理也称热力破碎，是指石英在高温煅烧时会发生晶形转?α石英→β石英→β鳞石?，从而使体积增大，晶体中原有的缺陷程度变得更严重，当水淬时晶体体积突然变小，晶体缺陷处的内应力迅速增大促使晶体在缺陷处破裂的一种方法。晶体在缺陷处破裂，使原石英中的包裹体和裂隙中的杂质暴露在颗粒表面，酸处理时就能易于除去、/span>
4、粉碎：采用湿磨或干磨将原料制成粒径?~50μm的超细石英砂;
5、高梯度磁选：选用磁场强度?0~15000高斯的高梯度磁逈/span>选矿设备，取出原料本身和操作过程中引入的?/span>等单质以及具有弱磁性的这些单质的化合物;
6、分级：利用分级设备按标准将原料分成多种粒度范围产品，在后续处理中，根据粒度范围均进行分别处琅/span>;
7、焙烧：采用专业焙烧炉，将石英原矿颗粒在300℃~1500℃的条件下焙?~5小时;
8、水碎：将被烧后的石英颗粒迅速置于室温热水中冷却，溶去焙烧生成的易溶性物质，并通过对水加热0.5~2小时，以增加该部分可溶性物质在水中的溶解度、/span>
9、浮选：向水碎后的石英砂细粉加入浮选剂，将比重小于1的杂质除厺
10、去离子水洗：用去离子水洗除残余的浮选剂和石英砂表面的杂?
11、干燥：先将去离子水洗后的石英砂进行风干(晾干)等除去大批量的水，然后再在特秌/span>干燥设备中进行干燥，并加热至100℃~200ℂ
12、酸浸：将干燥后的石英砂加入浸渍槽，在干燥高温的条件下迅速加入酸浸所用的?硫酸、盐酸、硝酸或氢氟?，酸的浓度为5%~20%，在30℃~100℃的条件下恒温搅?~24小时，除去石英砂细粉中的微量釐/span>属和非金属杂?/span>;酸浸是高纯石英砂提纯工艺中的重要工序之一，无论是制备电光源用石英玻璃，还是用于制备光伏以及半导体器件用的石英原料，都必须采用的工序。酸浸主要是为了去除溶于酸的金属氧化物和部分硅酸盐矿物。在经历焙烧水淬、拣选、强磁选后，大多数氧化物及杂质矿物已被去除，但还有部分氧化物及杂质矿物处在晶界、微裂隙及晶体内，去除有些困难，因此采用长时间的酸浸，以去除此类杂质、/span>
13、去离子水洗：将酸浸后的原料用去离子水洗去原料包含的酸液等，直至呈中?
14、干燥及包装：用特种干燥设备将原料进行干燥，并在净化车间内进行真空包装，得到产品、/span>
国特设备是生产石英砂、硅微粉、钾钠长石、碳酸钙专用设备和提供非金属矿生产线实验、设计、咨询及整条线供货的，集科研开发、工程设计、生产安装、调试服务为一体的现代化企业。服务范围涉及矿山、冶金、电力、煤炭、玻璃造纸、化工建材、耐火材料、砖瓦、食品、水泥等行业，产品畅销国内三十多个省市、自治区、/span>
国特设备主营：立式（卧式）石英板材砂生产线、石英粉生产线、石油压裂砂生产设备、高纯制砂机、石英酸洗设备、滚筒洗石机、气流分级机、滚筒（三筒）烘干机、板式磁选机、擦洗机、各类磁选机、除铁器筈/span>、/span>
