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光学仪器及设夆/a>
半导体行业专用仪?/a>
产品简介:
PS50型三维表面形貌仪是美国NANOVEA公司推出的一款科研版的三维表面形貌测量设备,采用国际前沿的白光共聚焦技术,可实现对材料表面从纳米到毫米量级的粗糙度测试,具有测量精度高,速度快,重复性好的优点,该仪器性价比高,可用于取代传统的探针式表面形貌仪与干涉式表面形貌仪、/span>
产品原理9/strong>采用白光共聚焦色差技术,可获得纳米级的分辨率
- 利用白光点光源,光线经过透镜后产生色差,不同波长的光分开后入射到被测样品上、/span>
- 位于白光光源的对称位置上的超灵敏探测器系统用来接收经被测点漫反射后的光、/span>
- 根据准共聚焦原理,探测器系统只能接收到被测物体上单点反射回来的特定波长的光,从而得到这个点距离透镜的垂直距离、/span>
-再通过点扫描的方式可得到一条线上的坐标+/span>即X-Z坐标
- 然后以S路径获得物体每个点的三维X-Y-Z坐标
- 然后将采集的三维坐标数据交给专业的三维处理软件进行各种表面参数的分析、/span>
- 软件能够自动获取用户关心的表面形貌参数、/span>
产品特性:
- 采用白光共聚焦色差技术,可获得纳米级的分辨率
- 测量具有非破坏性,测量速度快,精确度高
- 测量范围广,可测透明、金属材料,半透明、高漫反射,低反射率、抛 光、粗糙材?金属、玻璃、木头、合 成材料、光学材料、塑料、涂层、涂料、漆、纸、皮肤、头发、牙齿?:/p>
- 尤其适合测量高坡度高曲折度的材料表面
- 不受环境光的影响
- 测量简单,样品无需特殊处理
- Z方向测量范围大:?7mm
主要功能9/span>
-可创建任意区域的2D曲线图或2D等高线分布图:/span>
-可创建任意区域的3D图像:/span>
-自动得到样品的一维线粗糙度参数(Ra,Rp,Rv,Rz,Rc,Rt,Rq,Rsk,Rku);
-自动得到样品的二维面粗糙度(Sa,Sp,Sq,Sv,Sz,Ssk,Sku);
- 可得到样品的平整度,波纹度等参数:/span>
- 自动校准功能,例如粗糙度,一般情况下对于曲面样品,首先展平,然后自动给出粗糙度的参数:/span>
-具有尺寸测量:长度,宽度,角度,深度+/span>台阶高度:/span>
- 可测孔洞磨损面积,磨损体积等参数:/span>
- 具有功率谱密度测试功能;
-具有分形统计功能:/span>
......
主要技术参?
- XY全自动扫描范围:5050(mm(/p>
- XY扫描步长?.1m
- 扫描速度?0mm/s
-Z方向测量范围?7mm
-Z方向测量分辨率:2nm
产品应用9/strong>
MEMS、半导体材料、太阳能、摩擦磨损、汽车、腐蚀、砂纸、岩石等、/span>
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- 产品分类
- Alpha300RA拉曼与原子力联用系统
- ST500型三维表面轮廓仪
- WITEC RISE拉曼成像与扫描电子显微镜联用系统
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- Park NX10原子力显微镜
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- Park NX12生物原子力显微镜
- ULTECH REAL RTP-200快速退火炉
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- JR25便携式三维表面形貌仪
- Park XE7原子力显微镜
- HS2000型光学轮廓仪?/a>
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- 共聚焦拉曼显微镜
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- Park NX20原子力显微镜
- CB500型纳米压痕仪
- Park HIVAC真空原子力显微镜
- T100型多功能摩擦磨损试验朹/a>
- NANOVEA公司PS50型三维表面形貌仪
- T2000型多功能摩擦磨损试验朹/a>
- 2000C真空退火炉
- NANOVEA公司ST400型光学轮廓仪
- PB1000-BASIC型微米划痕仪
- CTS AIP300型全自动CMP化学机械抛光朹/a>
- PB1000型纳米划痕仪
- NanoMaster SWC-4000型CMP后清洗机
- CTS AP300型CMP化学机械抛光朹/a>
- CTS AP200型CMP化学机械抛光朹/a>
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