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恒温/加热/干燥设备
半导体行业专用仪?/a>
NX-Hivac型真空原子力显微镜简介:
NX-Hivac 型真空原子力显微镜是主要用为对气氛与水敏感材料研究专门设计的一款高真空原子力显微镜。NX-Hivac同样是一款全自动的原子力显微镜系统,扫描分辨率达到了0.02nm,集成了PARK公司**技术“非接触式工作模式“/span>“智能扫描模式”“基于压电陶瓷堆积技术的平板扫描器”,并标配快速扫描模式,变速扫描模式,加上可选功能模块,使得NX-Hivac型原子力显微镜被广泛用于物理,电学,力学,半导体等方向的研究、/span>
NX-Hivac型真空原子力显微镛/strong>技术特色:
1(/strong>真空度高,达10-4Pa,抽真空速度快,5min内达?0-5Torr以下
2(/strong>在高真空条件下执行扫描扩散电阻显微镜测量可减少所需的针?样本相互作用力,从而大幅度降低对样本和针尖的损伤。如此可延长各针尖的使用寿命,使扫描更加低成本和便捷,并通过提高空间分辨率和信噪比得到更为精确的结果。因此,利用NX-Hivac进行的高真空扫描扩散电阻显微术测量可谓是故障分析工程师增加其吞吐量、减少成本和提高准确性的明智选择、/span>
3)NX-Hivac 真空自动控制
Hivac 管理器通过一键单击在逻辑和视觉上控制**真空条件抽气和排气过程来实现高真空。各个过程通过颜色和图示变化得到直观监控,一键单击后您即可无需操心真空操作顺序。更快速、更简便的真空控制软件使原子力显微镜的使用更便捷更高效、/span>?
4)采用非接触式工作模弎/strong>9/span>
PARK公司是目前全?*一家真正实现非接触测量模式的原子力显微镜厂家,在不影响测量精度的前提下,可实现样品与针尖的非接触测量,避免了由于针尖磨损带来测量重复性差与探针磨损快的缺点、/span>
下图是测量CrN样品的实例,CrN样品的硬度很高,具有三角形结构,采用非接触模式测?00幅图后,图像质量几乎无变化,针尖几乎无磨损!!!
5)探测器噪声水平为全球业?位/span>?.02nm
Z轴探测器是全新的NX系列原子力显微镜的核心技术改进之一,它是Park**的新型应变传感器,凭借着0.2埃的超低噪声,它一跃成为行业内噪声*低的Z轴探测器,检测原子台阶及其容易、/span>
6)采用全?*性能平板扫描器:采用**技术得三轴分离的平板扫描器,在整个80m的扫描范围内误差?nm!!!!
7)操作极其简单:
- 具有“智能扫描模式”Smart scan:这是PARK公司?*技术之一,用户只需要选择扫描速度及扫描范围,系统即可自动调整反馈,无需寻找共振峰,无需调整反馈参数gain倻/span>
- 具有中文,英文等多种操作界面
- 凭借着我们先进的预准直悬臂架,悬臂在装载时激光便已完成聚焦。并且,自上而下的同轴视角(行业****)让您可以轻松地找到激光光点。由于激光垂直照射在悬臂上,您可以凭直觉旋动两个定位旋钮,将激光光点随着X轴和Y轴移动。这样,您可以在激光准直界面中,轻易地找到激光并将其定位在PSPD上。此时,您只需要稍作调整实现信号的**化,便可开始获取数据、/span>
NX-Hivac型真空原子力显微镛/strong>技术特色:NX10型原子力显微镜主要技术参?/span>9/span>
-XY方向闭环扫描范围9/span>100m100m
-Z方向闭环扫描范围9/span>15m
- 系统噪声水平 ?.02nm
- 全自动样品台 22mm22mm
- 样品台放置单?*样品尺寸100mm*100mm*20mm
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- 产品分类
- Alpha300RA拉曼与原子力联用系统
- ST500型三维表面轮廓仪
- TLTECH Real RTP 150快速退火炉
- WITEC RISE拉曼成像与扫描电子显微镜联用系统
- Park NX10原子力显微镜
- Park XE15原子力显微镜
- Park NX12生物原子力显微镜
- ULTECH REAL RTP-200快速退火炉
- SPA-4000棱镜耦合?/a>
- JR25便携式三维表面形貌仪
- Park XE7原子力显微镜
- HS2000型光学轮廓仪?/a>
- CB500-BASIC型微米压痕仪
- 共聚焦拉曼显微镜
- ULTECH REAL RTP-100快速退火炉
- Park NX20原子力显微镜
- CB500型纳米压痕仪
- Park HIVAC真空原子力显微镜
- T100型多功能摩擦磨损试验朹/a>
- NANOVEA公司PS50型三维表面形貌仪
- T2000型多功能摩擦磨损试验朹/a>
- 2000C真空退火炉
- NANOVEA公司ST400型光学轮廓仪
- PB1000-BASIC型微米划痕仪
- CTS AIP300型全自动CMP化学机械抛光朹/a>
- PB1000型纳米划痕仪
- NanoMaster SWC-4000型CMP后清洗机
- CTS AP300型CMP化学机械抛光朹/a>
- CTS AP200型CMP化学机械抛光朹/a>
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