**、产品简介：

韩国CTS公司皃�/span>AP300垊�/span>CMP抛光机是一款科研级皃�/span>CMP系统，采�?/span>CTS公司工业级的设计理念，为科研工作者及先进制程开发公司提供了一套研究级别的高端设备，可兼容4寸，6寸，8寷�/span>�?2寸样品、�/span>

第二、产品主要特色：

1�?/span>CMP抛光头：采用气囊加载模式＋�/span>5区压力独立控制，可得到良好的工业级抛光效果；

2、自动上下片，自动抛光，干进湿出：�/span>

3、抛光垫修整器：摆臂式设计，田�/span>13个传感器分别控制13个区域的下压力，可保证抛光垫高水平修整；

4、抛光垫修整器：具有在线修整与离线修整两种模式；

5，工艺数据可实时监测：�/span>

6、可存储多个Recipe.

第三、核心技术参数：

四，应用实例９�/span>

?CMP工艺Si CMP�氧化�?span> CMP(BPSG� TEOS� ThOx)�金属CMP(W� Cu)�介质膜，STI筈�/span>

?工艺开� 可协助客户进行各类材斘�span>/薄膜等的CMP工艺技术开叐�/span>