**、产品简介：

韩国CTS公司皃�/span>AIP300垊�/span>CMP抛光机是一欽�/span>12寸工业级CMP系统，可兼容4寸，6寸，8寸，12寸样品，可用于工厂及小批量量产、�/span>

第二、产品主�?strong>特色９�/span>

1�?/span>CMP抛光头：采用气囊加载模式＋�/span>5区压力独立控制，可得到良好的工业级抛光效果；

2、自动上下片，自动抛光，干进干出：�/span>

3、抛光垫修整器：摆臂式设计，田�/span>13个传感器分别控制13个区域的下压力，可保证抛光垫高水平修整；

4、抛光垫修整器：具有在线修整与离线修整两种模式；

5，工艺数据可实时监测：�/span>

6、可存储多个Recipe：�/span>

7�?/span>带两个手臂及自动双面清洗设备

第三、核心技术参数：

抛光夳�/span>	兼容4寸，6寸，8寷�/span>�?2寷�/span>
抛光头摆动范図�/span>	��15mm
抛光头转逞�/span>	0-200rpm
抛光头加压方弎�/span>	气囊柔性加压背压功能（-区加压）
抛光头压力范図�/span>	0.14-14 psi
抛光盘尺寷�/span>	20英寸
抛光盘转逞�/span>	0-200 rpm
蠕动泴�/span>	2�?/span>
抛光液流逞�/span>	20-500 cc/min
抛光垫修整器分区	13匹�/span>
抛光垫修整器在线扫描速度	10sweeps/min
抛光垫修整器下压劚�/span>	3-20lbs
抛光垫修整器转逞�/span>	0-150rpm
CMP后片内非均匀�?/span>WIWNU 1sigma，去辸�/span>5mm	< 5%
CMP后片间非均匀�?/span>WTWNU 1sigma，去辸�/span>5mm	< 3%
仪器尺寸	1000��2030��2100(W�� L�� H� mm)
冷却系统	包含

四，应用实例９�/span>

?CMP工艺Si CMP�氧化�?/span>CMP(BPSG� TEOS� ThOx)�金属CMP(W� Cu)�介质膜，STI筈�/span>

?工艺开叐�/span>可协助客户进行各类材斘�/span>/薄膜等的CMP工艺技术开叐�/span>