?产品简今�/span>SWC-4000型CMP后清洗机是美国NANO MASTER公司开发的一款科研级的高端清洗系统，用于去除晶圆在CMP工艺后晶圆表面污染物、残留物、或微尘颗粒等。该系统集成了美国NANO MASTER公司无损DI水兆声清�?*技术，配合四路的化学试剂清洗，PVA刷洗以及带异丙醇的高速甩干等清洗模块，对于单片清洗而言具有**的基底清洗能力，是科研CMP后清洗机�?*仪器、�/span>

?技术特艱�/span>

?兼容4�?�?�?2寸片晶圆，同时可用于**7”X 7”掩膜版清洗、�/span>

?干进干出或湿进干出、�/span>

?集成�?*的无损兆声清洗技术，同时支持去离子水冲洗、化学试剂清洗�?span>PVA刷子刷洗、红外灯烘干/氮气吹扫甩干清洗模块、�/span>

?配置4路化学容器罐，可支持4路化学清洗液进行清洗、�/span>

?两种干燥模式：高速甩干与红外烘干，可同时使用、�/span>

?用户可编程的清洗干燥工序，比如：

Cycle I：化学试剂清洖�/span>

Cycle II：去离子水冲洖�/span>

Cycle III：刷子刷洖�/span>

Cycle IV：兆声去离子水清洖�/span>

Cycle V：旋转甩干，氮气吹扫及红外灯烘干

每一套程序可以支�?/span> 20个操作步骤、�/span>

?可以存储多达25套产品程序、�/span>

?结构紧凑，集成度高：把所有的清洗需要集成到一个紧凑的立柜� ，旋转清洗单元、兆声脉冲射流清洗器、试剂容器以及所有的阀及传感器 都全部包含到该系统、�/span>

?带触摸屏皃�span>PLC控制、�/span>

?主要技术参�?/span>

Wafer尺寸	4�?�?�?2寸片晶圆，可用于**7”X 7”掩膜版清洗
清洗模块	去离子水冲洗、PVA刷子刷洗、化学试剂清洗、兆声清洖�/span>
去离子水	1.5L/min�?0PSI
PVA制�/span>	刷子旋转转速：**400RPM
化学试剂清洗	4�?升容器罐用于装稀释的化学清洗液，通过N2施压控制流量与容器罐装卸、�/span>
兆声清洗	频率�?MHz功率�?0W
干燥方式	旋转甩干、氮气吹扫、红外灯烘干
存储recipe	*�?5个，�?个recipe可以支持 20 个清洗步骤，而在每一个步骤中可以设定以下参数� RPM 转� （维持的转� � RAMP加速梯度（多快时间达到那个速度� � Dwell 运行时间 （维持想要的速度的时间有多长）、�/span>
旋转�?/span>	转速：0-2000RPM 加速度/减速度９�1-25.5秒（�?.1秒为增量（�/span>
每步骤旋转维持时闳�/span>	**�?50秒（�?.1秒为增量（�/span>
每步�?维持旋转)的试剂分布时闳�/span>	1-540秒（�?秒为增量（�/span>
每步�?变速阶�?的试剂分布时闳�/span>	1-25秒（�?秒为增量（�/span>
化学试剂分配速率	@15 PSI of N2� 83ccm (based on D.I.H2O) @20PSI of N2� 133ccm (based on D.I.H2O)
控制�?/span>	PLC控制系统，LCD触控屏控刵�/span>
仪器尺寸	28�?32�?54“�/span>

?应用

?Post CMP Wafer Cleaning

?Patterned and Un-patterned Masks and Wafers

?Ge� GaAs and InP Wafer Cleaning

?Cleaning of Diced Chips on Wafer Frame

?Cleaning after Plasma Etch or Photoresist

?Stripping

?Mask Blanks or Contact Mask Cleaning

?Cleaning of X-ray and EUV Masks

?Optical Lens Cleaning

?Cleaning of ITO Coated Display Panels

?Megasonic Assisted Lift-off Process