ETD-2000C型离子溅射仪在ETD-2000离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备、�/span>

工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得**镀膜效果、�/span>

一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点，可以满足广大SEM用户样品制备的需要、�/span>

离子溅射部分是比较常用的镀膜方式，是以金属靶材和样品台分别作为阴阳两极，在真空状态下产生辉光放电，使金原子与残存的气体不断碰撞而沉积成薄膜。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材、�/span>

具有成膜均匀，操作简单，所需时间短，过程可控等优点、�/span>

热蒸发部分是把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史*悠久的镀膜技术之一。热蒸发主要用于蒸发碳。使用超纯的碳纤维绳为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜、EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理。因为碳原子能够直接沉积在样品表面而不发生横向移动，所以碳能够形成小于1nm的颗粒、�/span>

参数９�/span>

仪器尺寸 �?05mm��400mm��390mm（W��D��H（�/span>

真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 160mm��110mm（D��H（�/span>

靶（上部电极）：50mm��0.1mm（D��H（�/span>

溅射靶材：Au（标配），也可根据实际情况配备银靶、铂靶等、�/span>

溅射靶材大小�?#966;50mm

样品台：样品台尺寸可安装直径50mm和直�?0mm的样品台，也可根据自身要求定制样品台

溅射工作电压�?-1600V (DC)可调

溅射电流�?-50mA

溅射定时�?-360S

蒸碳电流 0-100A(AC)

蒸发材料：碳纤维

蒸发工作电压�?-30V

蒸发时间�?-1S

微型真空气阀：可连接��3mm软管

可通入气体� 多种

输入电压�?20V(可做110V)�?0HZ

真空泵： 2升机械旋转泵（国产VRD-8（�/span>

特点９�/span>

1、简单、经济、可靠、�/span>

2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小、�/span>

3、真空保护可避免真空过低造成设备短路、�/span>

4、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到更细颗粒的涂层、�/span>

5、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层、�/span>

6、数字计时器定时自由方便、�/span>

7、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构

需要镀膜的样品

1、电子束敏感的样�?

主要包括生物样品，塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；

2、非导电的样�?

由于样品不导电，其表 面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为� 消除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导� 层，镀层作为一个导� 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜� 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量、�/span>

3、新材料:非导电材料和半导体材斘�/span>