ETD-2000 型离子溅射仪外观沉稳大气，采用真空自动控制和真空保护电路，使操作和应用更加安全可靠。为扩大应用领域，可同时手动调整溅射仪的电离电流或手动调整其真空微调针阀，改变电离室的压强，获得**的喷镀效果。独特的真空橡胶压边密封结构，保证长期使用不会使钟罩边缘出现毛边而影响真空室中的真空度，陶瓷密封高压插头经久耐用、�/span>

工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得**镀膜效果、�/span>

ETD-2000型是一�?常用的离子溅射仪，是一切溅射仪的基础。是以金属靶材和样品台分别作为阴阳两极，在真空状态下产生辉光放电，使金原子与残存的气体不断碰撞而沉积成薄膜。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材、�/span>

具有成膜均匀，操作简单，所需时间短，过程可控等优点、�/span>

配有高位定性真空泵

参数９�/span>

主机规格�?05mm��365mm��325mm（W��D��H（�/span>

靶（上部电极）：金：50mm��0.1mm（D��H（�/span>

靶材：Au（标配），也可根据实际情况配备银靶、铂靶等

样品室：硼硅酸盐玻璃160mm��120mm（D��H（�/span>

靶材尺寸�?#1060;50mm

真空指示表： **真空度：� 4X10-2 mbar

离子电流表： **电流�?0mA

定时器： *长时间：3600s

微型真空气阀：可连接��3mm软管

可通入气体� 多种

**电压� -1600 DCV

输入电压�?20V(可做110V)�?0HZ

机械泵：标准配置2L/S（国产VRD-8（�/span>

特点９�/span>

1、简单、经济、可靠、�/span>

2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小、�/span>

4、真空保护可避免真空过低造成设备短路、�/span>

5、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到更细颗粒的涂层、�/span>

6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层、�/span>

7、数字计时器定时自由方便、�/span>

8、计时器可随时停止，观察样品涂层，并可继续工作、�/span>

9、可调节样品台，适用于多种样品、�/span>

需要镀膜的样品

1、电子束敏感的样�?

主要包括生物样品，塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；

2、非导电的样�?

由于样品不导电，其表 面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为� 消除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导� 层，镀层作为一个导� 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜� 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量、�/span>

3、新材料:非导电材料和半导体材斘�/span>