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合肥致真精密设备有限公司
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该设备基于晶圆真空传输平台VTM，可以灵活配备传输腔室和工艺腔室，工艺腔室可选配电子束蒸发腔室、分子束外延腔室、溅射腔室、热蒸发腔室和预清洗腔室等。可实现多种材料的精确沉积、/p>
性能参数
| 晶圆尺寸 | 8~12吊/td> |
| 极限真空 | 优于5×10-9mbar（工艺室PM（br style="box-sizing: border-box;"/>优于5×10-7mbar（传输室TM（br style="box-sizing: border-box;"/>优于5×10-6mbar（进样室Load lock（/td> |
| 工艺宣/td> | 可选配电子束蒸发腔室、分子束外延腔室、热蒸发腔室、预清洗室、溅射室、退火室、低温室、蒸发室、氧化室筈/td> |
| 传输宣/td> | 可选四边形、六边形或八边形腔室，可实现多个传输室互联，配置双臂或单臂机械臂，配置校准和测量装置 |
| 进样宣/td> | 8?2吋晶圆，可选EFEM等前端模坖/td> |
| 详细配置可咨询业加br/> |
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