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合肥致真精密设备有限公司
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MS-200磁控溅射设备是一款小型台面式溅射系统，具有高真空、单原子层沉积精度的特点，可以灵活选择阴极向上或向下溅射。设备标??英寸超高真空阴极。满足简单的材料研究需求、/p>
晶圆尺寸 |
4inch向下兼容 |
镀膜均匀?/p> |
优于±2% |
极限真空 |
1×10-8mbar |
温控 |
RT-800ℂ/p> |
阴极数量 |
3?inch靶头共焦溅射 |
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