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科研级磁控溅射设备—MS-400
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参考报价:
面议
品牌9/dt>
致真精密
关注度:
208
样本9/dt>
暂无
型号9/dt>
科研级磁控溅射设备—MS-400
产地9/dt>
安徽
信息完整度:
典型用户9/dt>
暂无
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高级会员 1平/div> 称: 合肥致真精密设备有限公司
证:工商信息已核宝br /> 访问量:8577
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MS-400磁控溅射设备是一款多功能多靶磁控溅射系统,具有超高真空,单原子层沉积精度,设备维护简单的特点。MS-400系统标配6?inch共焦超高真空阴极,满足实验室或企业实验室中工艺研究的需求,维护简单,运行稳定、/p>

性能参数

晶圆尺寸

4inch向下兼容

镀膜均匀?/p>

优于±2%

极限真空

优于1×10-9mbar(金属密封)

优于1×10-8mbar(胶圈密封)

温控

RT-800℃,可?*1200ℂ/p>

阴极数量

6~7?inch,共焦溅尃/td>

客户案例1

通过本MS-400科研级磁控溅射,制备了具有强PMA的Mo基结构的单自由层和双自由层MTJ磁隧道结薄膜、/p>


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