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科研级磁控溅射设备—MS-700
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面议
品牌9/dt>
致真精密
关注度:
248
样本9/dt>
暂无
型号9/dt>
科研级磁控溅射设备—MS-700
产地9/dt>
安徽
信息完整度:
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暂无
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MS-700磁控溅射设备是一款具有多功能、多阴极的磁控溅射系统,具有超高真空,单原子层沉积精度的特点。可根据需求配?inch以下的圆形阴极,可选择垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚测量等配置。适用于研发和生产需要多靶溅射的中高精度的工艺需求、/p>

性能参数

晶圆尺寸

4inch-6inch

镀膜均匀?/p>

优于±2%

极限真空

优于5×10-10mbar(金属密封)

优于5×10-9mbar(胶圈密封)

温控

RT-800℃,可?*1200ℂ/p>

阴极数量

12?inch 6?inch,共焦溅尃/td>

电源

DC、RF、DC Pulse

沉积精度

0.1nm

占地面积

4m L*3m W*2.5m H

可逈/p>

低温泵、垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚仪、RGA、工艺菜单等


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