IoN Wave 10E等离子去胶机是我们在微波等离子处理工艺中�?*产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适中、性能先进，特别适用于工厂、科研院所等领域、�/span>

IoN Wave 10E使用**的、性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实�?严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等领域、�/span>

IoN Wave 10E占地面积很小，安装和维护简单。依靠微波等离子技术，该设备在提供极高的光刻胶灰化速度的同时，**程度的降低了产品暴露在静电放电（ESD）中、�/span>

先进的功能性：

• 台式设计，占地面积小
  

• 石英腔室**可容�?寸的晶圆�?多同时装�?5�?寸晶�

• 使用Windows操作系统的工业计算机控制

• 符合Semi E95-1101要求的图形用户界面（GUI（�/span>

• 软件提供了不同的用户访问权限：操作员、工艺编写、维抣�/span>

• 通过以太网进行远程工艺监浊�/span>

• 机载诊断功能和报警记彔�/span>

• 工艺编辑软件提供了快速灵活的步骤控制功能

• 液晶触摸屏（LCD）操作面松�/span>

• 基于在线网络的模拟、培训和支持程序

• 安装简单快捶�/span>

典型应用

• 去除光刻胵�/span>

• 晶圆打胶

• 湿法刻蚀前的晶圆清洁

• 去除SU-8

• 刻蚀钝化屁�/span>

• 失效分析中的器件开�?/span>

• 清洁和表面活匕�/span>

• 化学微量分析中的低温材料灰化

• 过滤器和滤膜的清�?/span>

规格参数

工作腔室

材质 石英

尺寸 248mm直径 x 397 mm镾�/span>

腔门处直�?nbsp; 241mm

容积 19.2 卆�/span>

工艺气体控制 *多至6路气体，MFC控制

基础压力 0.07 mbar (50 mTorr)

工艺压力 0.5 � 1.5 mbar (375 � 1125 mTorr)

抽真空时�?nbsp; 大约1分钟

微波发生�?/span>

频率 2.45 GHz

输出功率 **1200W

供给需汁�/span>

电源 220V�?0 Hz，单盷�/span>

工艺气体 输入压力1-2 Bar

压缩空气 4-6 Bar，流�?* 56 �?分钟 （间歇式（�/span>

吹扫气体 1.3-2.7 Bar，流�?* 28 �?分钟 （间歇式（�/span>

尺寸 �?�?�?nbsp; 775 x 749 x 781 mm

重量 135 千克

可选配�?/span>

• 推拉�?/span>

• 石英舟支撑杆

• 温控�

• 1%精度的真空规

• 压力控制�?/span>

• 指示灯柱

• 条形码阅读器

• 工艺气体切换�?/span>

• 光谱终点检测器

• 法拉第桶（次级等离子体）

• 陶瓷腔室，耐化学腐蚀密封�

• 打印朹�/span>

• 油泵或干泴�/span>