IoN 100WB-40Q是我�?*推出的具有高性价比的真空等离子去胶设备。它来源于IoN 100-40Q，IoN 100WB-40Q延续了同样的高品质保障，包括可选压力控制器、光谱终点检测器等丰富配置选择、�/span>

IoN 100WB-40Q配备了一个圆筒石英腔，特别适用于半导体、LED、MEMS等领域的光刻胶灰化、打残胶、氮化物刻蚀、表面清洁等应用的批次处理、�/span>

IoN 100 WB旨在满足客户的生产需求，着重于表面处理的多功能性和可控性。其先进的性能提供了出色的工艺控制、失效报警系统和数据采集软件。这使得该设备可满足半导体、LED、MEMS等领域严格的程序控制要求。IoN 100 WB结构紧凑，集成度高，采用射频（RF）频率激发等离子体、�/span>

先进的功能特性：
�低微粒石英腔佒�/span>

�触摸屏操作，图形用户界面（GUI（�/span>

�使用Windows系统的工业计算机控制

�工艺员、操作元、维护员访问权限控制

�自诊断功能和警报记录功能，联网在线诊断功胼�/span>

�以太网远程控制功胼�/span>

�工艺编辑软件提供了快速灵活的步骤控制功能

�可隔墙安裄�/span>

�可选配光谱终点检测功胼�/span>

规格参数
工作腔室材料 石英
腔门材质 铝（标配（�br/> 腔体尺寸 直径304 mm，深508mm

**可处理晶圆尺�?nbsp; 8“�/span>

**处理�?nbsp; 50�?“�/span>

装料方式 手动
　　　　　　　

工艺气体
质量流量控制�?nbsp; *多至6路气佒�br/> 工艺压力 200-2000 mTorr(取决于真空泵和气体流�?
抽真空时�?nbsp; 大约1分钟 (取决于真空泵)

射频电源 风冷13.56MHz,600 �?标准配置)
供给需求电源　　　　　 220V 单相, 50Hz
工艺气体 输入压力 1-2 bar
吹扫气体 输入压力 1-2 bar
压缩空气 输入压力 4-6 bar

机体

�独立的机体带有所有电源和气体接口
�带有旋转垫脚的可转动机身

设备尺寸
标准尺寸 1067 x 737 x 1524 mm（宽/�?深，不含泵）
重量 �?04千克（不含泵（�br/>
可选项

◎�/span>压力控制�?br/>◎�/span>1%精度的真空规

◎�/span>石英腔门
◎�/span>指示灯柱
◎�/span>条形码阅读器
◎�/span>工艺气体切换�?br/>◎�/span>光谱终点检测器

◎�/span>耐腐蚀性气体的MFC
◎�/span>1000�?3.56 MHz射频发生�?br/>◎�/span>真空泵（油泵或干泵）