仪器简介：

K950X高真空蒸镀仪在使用碳棒蒸镀时可给出连续的碳膜，并且使用涡轮分子泵时无污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜，以及SEM中的导电涂层、�/p>

在厚度为2nm (20�?或更厚时膜是连续的�?通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到**电流密度，使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点，出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵达�?x10-4 mbar或更高的真空度、�/p>

涡轮分子泵在K950X中作为标准配置，此泵作为机械真空泵的后级泵，真空为全自动控制，真空度优于1x10-5 mbar。可进行预热及除气控制，同时用瞬时蒸发开关使脉冲蒸发在用户控制下进行、�/p>

标准的旋转样品台可进行倾斜调节，非常容易适应各种样品座。可选的样品台具有特殊的凹槽，可放置标准的载玻片，这在“石棉分析”需要镀碳层时尤为有利、�/p>

碳棒头在仪器中作为标准件。这是一个“快速释放头”，使用户在选择金属蒸发附件、碳丝及光阑清洗头时可方便地更换。放气系统具有互锁装置，避免样品受到干扰。涡轮分子泵可安装在任何轴上，并且可安全地“关闭”直接通大气、�/p>

优点

� 容易操作

� 均匀的样品涂屁�/p>

� 方便多用户操佛�/p>

� 可用于蒸碳及蒸镀金属

� 在排气过程中可防止样品损坎�/p>

� 碳棒或碳丝蒸叐�/p>

技术参数：

仪器尺寸�?50mm W x 350mm D x 175mm H (Overall height with Work Chamber 750mm) 重量�?8Kg

工作腔室：硼硅酸盐玻�?65mm Dia x 125mm H

安全钟罩：聚碳酸�?/p>

铝机座：110mm Dia x 115mm H

� 源：直径3.2mm碳棒

旋转样品台：直径�?0 mm，倾斜0-90o

到电极距离为110mm � 130mm

真空计范围：ATM - 1x10-5 mbar

操作真空�?x10-2 to 1x10-5 mbar

安培计：0-50 Amps

低电压选择�?-5V-15V-25V

除气电流�?-25 Amps

涡轮分子泵：50L/Second

Services -Argon - Nominal 4psi. Rotary Backing Pump -Two Stage Vacuum Pump No. 2� 35L/Min complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter. 2m3/Hr

电源�?30V 50Hz (包括�?*电流8 安培)�?15V 60Hz(包括�?*电流16 安培)

主要特点９�/strong>

特点

� 全自动抽气系绞�/p>

� 旋转样品�?/p>

� 菜单驱动式“用户”键盘输�?/p>

� 快速释放头方便选择不同的头

� 约束的排气控刵�/p>

� 涡轮分子泵抽真空