气相沉积制粉一体真空炉

设备名称９�/span>氧化亚硅半连续气相沉积炉

应用领域９�/span>氧化亚硅半连续量�?nbsp;

工艺描述９�/span>高真空脱氧，气相沉积，自动研磨刮 斘�/span>�?/span>炉外收集。可配AGV智能物流�?/span>

型号参数９�/span>

1．型号：MGC50-50-360HH

2. 技术参数：装料罐尺寸�?00 * 1600，装料量Max.800Kg，工作温度１35０℃，极限温�?600℃，温差控制精度3℃，真空�?.1* 0.5pa，气氛类别：Ar/N2，总功�?50KW，工序时�?H/炉、�/span>

3. 工艺特点：适用于动力电池负极材料（氧化亚硅等可气相沉积材料）大批量生产用；温差控制精度高，高温高真空；具备脱脂、脱水、混炼反应、提纯等工艺能力。生产效率高，全程全封闭全自动化作业，生产能耗低，性能稳定，主要元器件皆为进口大品牌，是目前业界真空气相沉积制粉工艺优秀的解决方案、�/span>