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广东大族半导体装备科技有限公司
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切割朹/a>
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半导体行业专用仪?/a>
产品简今/div>
主要参数 | 片盒数量 |
2CS&2LP |
配置 |
4 Etch unit |
|
wafer 类型 |
圆片 |
|
wafer 尺寸(mm(/td> | 50-300 | |
产能(WPH(/td> | 90 | |
化学药液 | H2O2、强酸碱 |
|
衬底材料 | Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4 | |
适用工艺 | Wet Etch | |
干燥模式 | Spin Dry+N2 Dry |
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