立高新离子研磨装�?/span>IM4000＇�/span>HITACHI Ion Milling System IM4000）具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！

日立高新离子研磨装置IM4000＇�/span>HITACHI Ion Milling System IM4000（�/span>皃�/span>混合模式带有两种研磨配置９�/span>断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像、�/span>平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择地研磨，以便突出样品的表面特性、�/span>

日立高新离子研磨装置IM4000＇�/span>HITACHI Ion Milling System IM4000（�/span>皃�/span>高通量能提高加工效率：与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间、�/span>�?*加工率：硅元素为300微米/小时�加工时间减少亅�/span>66%、�/span>

日立高新离子研磨装置IM4000＇�/span>HITACHI Ion Milling System IM4000（�/span>皃�/span>可拆卸样品台装置９�/span>

为便于样品设置和定义研磨边缘，可将样品台装置拆卸、�/span>

特点

�� 混合模式：两种研磨配�?/span>断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面高分辨观察平面研磨：不同角度有选择地，大面积，均匀地研�?span>5 mm的平面，以突显样品的表面特�?/span> �� �� 高效：提高加工效玆�/span>与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间(**加工速度：硅材质丹�/span>300 ��m/h -加工时间减少亅�/span>66%) �� �� 可拆卸式样品台：为便于样品设置和边缘研磨，样品台设计为可拆卸垊�/span> ��