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产品详情
VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪
产品简今/div>

产品简介:VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸丹/span>2英寸,且样品台的高度可以调节。此款镀膜仪设计主要是制作一些金属薄膜,**制膜面积?英寸、/span>

产品型号

VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪

主要特点

1、特别为SEM样品镀导电性薄膜设计、/span>

2、体积小巧,操作简单,容易上手、/span>

3、拥有小型磁控靶头,可以镀金银铂等金属、/span>

技术参?/span>

1、输入电源:220V AC 50/60Hz

2、功率:200W

3、输出电压:500 VDC

4、溅射电流:0-50 mA可调

5、溅射时间:0-120S可调

6、溅射腔佒/span>

1)采用石英腔体,尺寸?66 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H

2)密封:采用不锈钢平法兰的O形密封圈

7、溅射头&样品?/span>

l)溅射头可安装靶材直径为2英寸,厚?.1 - 2.5mm

2)溅射时?-120S可调

3)仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台,其与溅射头之间距?0-80mm可调、/span>

4)可选购加热型样品台,其**加热温度?00ℂ/span>

5)安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅尃/span>

6?*可制膜的直径丹4英寸(仅供参考,详情请点击)

8、真空系绞/span>

l)安装有KF25真空接口

2)数字真空压力表(Pa(/span>

3)此系统可通入气体运行

4( 1.0E-2 Torr (采用机械泵(/span>

5( 1.0E-5 Torr(采用涡旋分子泵(/span>

9、进氓/span>

l)设备上?/4英寸进气口,方便连接气瓶

2)设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气?/span>

10、靶杏/span>

l)靶材尺寸要求:50mm(0.1 - 2.5) mm(厚度)

2)设备标配为铜靶

11、产品外型尺寷/span>

L460 mm W 330 mm H 540 mm

净重:20 kg(不包括泵)

可逈/span>

1?/span>可在本公司选购各种靶材

对于溅射各种金属靶材,需要摸?理想的溅射参数,下表是本公司实验所设置的参数,欢迎您带料来科晶实验室摸索工艺(仅供参考)

靶材种类真空度(Pa)溅射电流(mA 时间 (s)溅射次数Au31-3328-301001Ag31281001

2?/span>可在本公司选购各种真空泴/span>

3、可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上

质量认证

CE认证

质保朞/span>

一年保修,终身技术支持、/span>

特别提示?.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内、/span>

2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内、/span>

使用提示

l、有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膛/span>

2、在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净

3、要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表靡/span>

4、超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声,?)异丙醇超声-去除油脂,(3)吹氮气干燥,(4)真空烘箱除去水分、/span>

5、等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物、/span>

6、制造一个薄的缓冲层?纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力、/span>

7、请使用>5N纯度氩气等离子体溅射

8、溅射镀膜机可以放入Ar或N2气体手套箱中溅射

9?/span>由于能量低,该模型不适用于涂层的轻金属材料如Al,Mg,Zn,Ni。请考虑我们的磁控溅射镀膜机或热蒸发镀膜机、/span>

超声波清洗机等离子清洗机大功率磁控溅射仪 蒸发镀膜仪

警告

注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体、/span>

气瓶上应安装减压阀(不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用、/span>

溅射夳/span>连接到高电压、/span>

为了安全+/span>操作者必顺/span>?/span>关闭设备前装样和更换靶头、/span>

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