产品简介：该设备为小型三靶磁控溅射镀膜设备，通过模块式化设计后，系统安装方便灵活易于维护，适合科研与教学实验使用、/span>
产品型号 |
三靶高真空磁控镀膜溅射系绞/strong> |
主要特点 |
1?/span>组成由单室超高真空双靶磁控溅射室，由溅射真空室与管路组成、/span> 2?/span>配有旁抽系统，启动快不停机即可更换样品，重复性好、/span> 3?/span>用于镀制各种单层膜、多层膜系，可实现单靶独立、双靶轮流、双靶共溅射等溅射模式、/span> 4?/span>同时可以实现反应磁控溅射，制备氮化物，氧化物等，可镀金属及导磁金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜、/span> 5?/span>作为试验设备来说达到?*的性能价格比、/span> |
技术参?/span> |
系统由真空腔室、旋转样品架、磁控溅射靶、铠装加热器?/span>抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统等各部分组成、/span> 极限真空优于?.0x10-5Pa（经烘烤除气后） 真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达?.0x10-4Pa：/span> 停泵关机12小时后真空度９/span>≣/span>5 Pa 1?/span>真空室腔体尺?#1060;300x350mm，手动上开盖辅助液压结构，前有一个观察窗，样品台可旋转内部连接铠装加热器、真空规、放气阀等各种规格的法兰接口，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面采用电解抛光处理。采用金属或氟橡胶圈密封。配备一体机柜标准电箱、/span> 2、磁控溅射靶 靶材尺寸?#934;50mm（其中一个可以溅射磁性材料）：/span> 永磁靶一支、强磁靶一支：射频溅射与直流溅射兼容，靶内有水冷；配手动挡板、/span> 2个靶可共同向下面的样品中心溅射，靶与样品距离90?10mm可调、/span> 3、铠装加热样? 加热区域?#934;100mmX100mm(H)，基片加?*温度 室温-600C1C，由热电偶闭环反馈控制、/span> 配有磁力转轴，电机驱动每分钟低于30转、/span> |
标准配件 |
1、真空部仵/strong> 进气角阀?套； RF100观察窗：1套； 观察窗法兰：RF100 2个； 电阻规： KF16 1个； 电极引线 CF25 1个； 2、工作真空获得及测量９/strong> 直联6L/s机械泵： 1台； F600分子泵：1台； 电磁KF20阀?台； 5227真空计：1?/span> 角阀RF16、管路、接头、充气阀D6等： 1路； KF25电磁压差阀 1台； CF100闸板阀?台； 3、相关规格的金属密封铜圈，氟橡胶密封圇/strong> 4、不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等 5、安装机台架组件: 安装台架：整个设备安放在一个用承载式标准电箱上，箱体均进行喷塑处理。拆卸方便占地小780mmX580mmx1100mm、/span> 6、电源控制系绞/strong> 电源布置在标准电箱上，安装于系统机架上、/span> 7、自制电溏/strong> 控制电源?台（为机械泵、电磁阀等提供电源及过程控制带逻辑监测）； 样品加热电源?台（日本产控温表可实现程序控温）室温-600C1C，由热电偶闭环反馈控制、/span> 8、配套电溏/strong> 真空计电源：1奖/span> 直流DC500W电源?奖/span> 流量显示、流量控制器?奖/span> 9、备品备仵/strong>?奖/span> |
