VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等、/span>VTC-600-2HD双靶磁控溅射?/span>配备有两个靶枪，一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜，一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜、/span>与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优炸/span>＋/span>且可使用的材料范围广＋/span>是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备、/span>
产品型号 |
VTC-600-2HD双靶磁控溅射?/span> |
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产品型号 |
VTC-600-2HD |
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安装条件 |
本设备要求在海拔1000m以下，温?5?#177;15℃，湿度55%Rh10%Rh下使用、/span> 1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电：AC220V50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需兄/span>注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自?6mm双卡奖/span>接头）及减压阀 4、工作台：尺?500mm600mm700mm，承?00kg以上 5、通风装置：需?/span> |
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主要特点 |
1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜、/span> 2、可制备多种薄膜，应用广泛、/span> 3、体积小，操作简便、/span> |
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技术参?/span> |
1、电源电压：220V 50Hz 2、极限功率：<2KW（不含真空泵（/span> 3、极限真空度９/span>9.010-4Pa 4?/span>样品台加热温?/span>：RT-500℃，精度1℃（可根据实际需要提升温度） 5、靶枪数量：2个（可选配其他数量（/span> 6、靶枪冷却方式：水冷 7、靶材尺寸：?2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同（/span> 8、直流溅射功率：500W：/span>射频溅射功率?00W。（靶电源种类可选，可选择两个直流电源，也可选择两个射频电源，或选则一个直流一个射频电源） 9、载样台?140mm 10、载样台转速：1rpm-20rpm内可谂/span> 11、保护气体：Ar、N2等惰性气佒/span> 12、进气气路：质量流量计控?路进气，一?/span>?00SCCM，另一路为200SCCM、/span> |
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产品规格 |
1、主朹/span>尺寸９/span>500mm560mm660mm 2、整朹/span>尺寸９/span>1300mm660mm1200mm 3、重量：160kg |
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标准配件 |
1 |
直流电源控制系统 |
1奖/span> |
2 |
射频电源控制系统 |
1奖/span> |
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3 |
膜厚监测仪系绞/span> |
1奖/span> |
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4 |
分子泵（德国进口（/span> |
1?/span> |
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5 |
冷水朹/span> |
1?/span> |
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6 |
冷却水管＇/span>?6mm（/span> |
4核/span> |
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可选配仵/span> |
金、铟、银、白金等各种靶材 |
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