VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等、span>VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质叉span>OLED等、/span>
?span>?/span>名称 |
VTC-600-3HD三靶磁控溅射?/span> |
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产品型号 |
VTC-600-3HD |
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安装条件 |
本设备要求在海拔1000m以下，温?/span>25?#177;15ℂ/span>，湿?/span>55%Rh10%Rh下使用、/span> 1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电９/span>AC220V50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需兄/span>注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自?/span>?6mm双卡奖/span> 接头）及减压阀 4、工作台：尺寷/span>1500mm600mm700mm＋/span>承重200kg以上 5、通风装置：需?/span> |
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主要特点 |
1?/span>配置三个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任何调换）、/span> 2?/span>可制备多种薄膜，应用广泛、/span> 3?/span>体积小，操作简便、/span> 4、整机模块化设计，真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整、/span> 5?/span>可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪、/span> |
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技术参?/span> |
1、电源电压：220V 50Hz 2、总功率：2.5KW 3、极限真空度９/span>< E-6mbar（配合本公司设备使用可达?/span>E-5mbar（/span> 4、工作温度：RT-500℃，精度1℃（可根据实际需要提升温度） 5、靶枪数量：3?/span> 6、靶枪冷却方式：水冷 7?/span>靶材尺寸９span>?2′/span>，厚?span>0.1mm-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同（/span> 8、直流溅射功率：500W（可选） 9、射频溅射功率：300W/500W（可选） 10、载样台９/span>?140mm 11、载样台转速：1rpm-20rpm内可谂/span> 12、保护气体：Ar?/span>N2等惰性气佒/span> 13、进气气路：质量流量计控刵/span>2路进气，1?/span>流量丹span>100 SCCM＋span>1?/span>流量?00 SCCM |
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产品规格 |
主机尺寸９/span>500mm560mm660mm，整朹span>尺寸９/span>1300mm660mm1200mm；重量：160kg |
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标准配件 |
1 |
直流电源控制系统 |
2奖/span> |
2 |
射频电源控制系统 |
1奖/span> |
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3 |
膜厚监测仪系绞/span> |
1奖/span> |
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4 |
分子泵（德国进口（/span> |
1?/span> |
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5 |
冷水朹/span> |
1?/span> |
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6 |
冷却水管＇span>?6mm（/span> |
4核/span> |
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可选配仵/span> |
金、铟、银、铂等各种靶杏/span> 掩膜片/span> 振动样品?/span> |
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