产品简介：钙钛矿镀膛/span>朹/span>主要由有朹/span>/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成、/span>适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作＋/span>广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领埞/span>、/span>
产品型号 |
钙钛矿镀膛/span>朹/span> |
主要特点 |
1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置、/span> 2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品?*烘烤加热温度?80℃、/span> 3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置、/span> |
技术参?/span> |
1?/span>镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约丹/span>600mm450mm450mm 2?/span>眞/span>空排气系绞/span>９/span>采用分子泴/span>+机械泵系绞/span> 3?/span>眞/span>空度９/span>镀膜室极限真空≣span>610-4Pa 4?/span>糺/span>统漏率：≣span>110-7Pa 5?/span>蒷/span>发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发?个、容?/span>5ml＋/span>2台蒸发电源，可测温?/span>控温，加热温?/span>400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容?/span>5ml＋/span>2台蒸发电源，加热电流300A，功玆/span>3.2KW：/span>蒷/span>发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开?/span> 6?/span>栶/span>品架：安装在真空室的上盖上，可放?/span>?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm 7?/span>功/span>热温度：RT-180℃，测温、控?/span> 8?/span>膛/span>厚控制仪９/span>石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999? |
