产品简介：GSL-PECVD-300化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术，基本温度低，沉积速率?/span>，在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜质量好，针孔较少，不易龟裁/span>，送/span>?/span>亍/span>制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器仵/span>＋/span>可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备、/span>
产品型号 |
GSL-PECVD-300化学气相沉积 |
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安装条件 |
本设备要求在海拔1000m以下，温?/span>25ℂ/span>15ℂ/span>，湿?5%Rh10%Rh下使用、/span> 1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电９/span>AC380V 50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注?span>/氩气（纯?9.99%以上），需自备实验所需气体气瓶（自?10mm双卡套接头）及减压阀 4?/span>场地９/span>设备尺寸22002000mm1500mm，承里/span>1000kg以上 5、通风装置：需?/span> |
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主要特点 |
1?/span>所需成膜温度位/span> 2?/span>沉积速率?/span>，应用广泚/span> 3、体积小，操作简侾/span> 4?/span>采用射频为增强源易于控制 5、清理安装便捷、/span> 6、一体化触摸屏控刵/span> |
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技术参?/span> |
1?/span>系统采用单室筑/span>式结构，手动前开门； 2?/span>真空室组件及配备零部件全部采用优质不锈钢材料制造（304），氩弧焊接，表面采用喷玻璃?电化学抛光钝化处理配有可视观察窗口，并带挡板，真穹/span>有效尺寸丹/span>300mm300mm：/span> 3?/span>极限真空度：?.67x10-4Pa (经烘烤除气后，采?/span>600L/S分子泵抽气，前级采用4L/S)：/span> 系统真空检漏漏率：?.0x10-7Pa.l/S 系统从大气开始抽气到5.0x10-3Pa＋/span>40分钟可达到； 停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa：/span> 4?/span>采用样品在下，喷淋头在上的电容式耦合方式进气：/span> 5?/span>样品加热**加热温度９/span>500℃，温控精度?#177;1C，采用控温表进行控温：/span> 6?/span>喷淋头尺寸：90mm，喷淋头与样品之间电极间跜/span>40-100mm在线连续可调（可根据工艺调整（/span>，并带有标尺指数显示：/span> 7?/span>沉积工作真空９/span>0.133-133Pa（可根据工艺调整（/span>：/span> 8?/span>射频电源：频 13.56MHz?*功率500W，全自动匹配：/span> 9?/span>.气体种类（用户提供），使用质量流量控制器控制进气、/span> 10?/span>系统设有尾气处理系统(用户自备)、/span> |
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产品规格 |
整机尺寸９/span>1200x1500x1500mm：/span> |
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标准配件 |
1 |
电源控制系统 |
1奖/span> |
2 |
真空机组 |
1奖/span> |
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3 |
真空测量 |
1奖/span> |
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